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Table PVD-15 金屬和有機(jī)物熱蒸發(fā)系統(tǒng)

應(yīng)用領(lǐng)域:

Table PVD-15 一款小型電阻蒸發(fā)鍍膜儀,主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊易于操作, 適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、 半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、鋰電池、有機(jī)膜等,也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等。 

 可鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜,單層 / 多層 / 復(fù)合膜,( Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Cr,Ni 等);鍍制非金屬 / 化合物 等材料薄膜( Mo03, LiF 等;有機(jī)材料等蒸發(fā);太陽(yáng)能電池、LED 的研究和實(shí)驗(yàn);描電鏡制樣等。

Table PVD-15 有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜儀.jpg

基本配置: 

真空腔室:Φ250mm(ID) x 300mm(H) 

真空系統(tǒng):機(jī)械泵 + 分子泵兩級(jí)真空系統(tǒng) 前級(jí)泵:VRD-16 機(jī)械泵,抽速:4L/S 主抽泵:分子泵,抽氣速率:300L/S 主抽閥:CCQ-100 超高真空氣動(dòng)插板閥, 

極限真空:<5×10-5Pa 

恢復(fù)真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

真空測(cè)量:兩低一高數(shù)顯復(fù)合真空計(jì) 

發(fā) 源:2 組金屬蒸發(fā)源;(標(biāo)配) 最多 2 個(gè)有機(jī)束源爐源;(選配) 

蒸發(fā)電源:采用恒壓、恒流真空鍍膜電源, 最大功率 2.4KW,電流調(diào)節(jié)精度:0.01A 

樣品臺(tái):可容納樣品最大尺寸:3 英寸樣品托一個(gè) , 配擋板,轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào) ; 樣品可加熱控溫, 溫度范圍:室溫 -300℃,控溫精度 ±0.5℃; 

系統(tǒng)控制:10 英寸觸摸屏 +PLC 控制(可選手動(dòng)按鈕控制)

工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮?dú)?/span> 

: 單相 220V , 50Hz, 16A 

:18-25 , 1L/min,壓力 < 0.4MPa

選擇配置: 

樣品臺(tái)可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控溫 

全量程真空計(jì)( Inficon 

速率 / 膜厚監(jiān)控測(cè)儀(SQM-160 

可選進(jìn)口蒸發(fā)電源 

系統(tǒng)要求標(biāo)準(zhǔn)配置: 

真空腔室:Φ250mm(ID) x 300mm(H) 

真空系統(tǒng):機(jī)械泵 + 分子泵兩級(jí)真空系統(tǒng) 前級(jí)泵:VRD-16 機(jī)械泵,抽速:4L/S 主抽泵:分子泵,抽氣速率:300L/S 主抽閥:CCQ-100 超高真空氣動(dòng)插板閥, 極限真空:<5×10-5Pa 

恢復(fù)真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

真空測(cè)量:兩低一高數(shù)顯復(fù)合真空計(jì) 

發(fā) 源:2 組金屬蒸發(fā)源;(標(biāo)配) 最多 2 個(gè)有機(jī)束源爐源;(選配) 

蒸發(fā)電源:采用恒壓、恒流真空鍍膜電源, 最大功率 2.4KW,電流調(diào)節(jié)精度:0.01A 

樣品臺(tái):可容納樣品最大尺寸:3 英寸樣品托一個(gè) , 配擋板,轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào) ; 樣品可加熱控溫, 溫度范圍:室溫 -300℃,控溫精度 ±0.5℃; 

系統(tǒng)控制:10 英寸觸摸屏 +PLC 控制(可選手動(dòng)按鈕控制)