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MiniLab-30T PVD 薄膜沉積系統(tǒng)

應(yīng)用領(lǐng)域:

適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜( Al、AuAg、Cu 等),也可蒸鍍各種氧化物材料??蓪?shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)材料的蒸發(fā)鍍膜,可滿 足發(fā)光器件 OLED(有機(jī)發(fā)光二極管)。及有機(jī)太陽(yáng)能電池方面的研究要求,是一款鍍膜效果理想且性價(jià)較高的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。 可鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜,單層 / 多層 / 復(fù)合膜,( Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Cr,Ni 等);鍍制非金屬 / 化合物等 材料薄膜( Mo03, LiF 等;有機(jī)材料等蒸發(fā);太陽(yáng)能電池、LED 的研究和實(shí)驗(yàn);描電鏡制樣等

MiniLab 30 PVD 薄膜沉積系統(tǒng) (電阻蒸發(fā)).JPG

基本配置:

真空腔室:350×400mm 不銹鋼 D 形腔體。前門鉸鏈方便真空室清理;腔室底板,頂部和側(cè)面裝有腔室內(nèi)硬件接口;前 門上配直徑 80 玻璃觀察窗(含手動(dòng)防污染擋板、可拆洗防污玻璃);腔體可選擇水冷。 

抽氣系統(tǒng): 采用復(fù)合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作為真空抽氣系統(tǒng); 主抽泵:分子泵抽速≥ 600L/S,氮?dú)鈮嚎s比≥ 109 ; 前級(jí)泵:VRD-24 機(jī)械泵及電磁閥,抽速:6L/S 主抽閥: CCQ-150 超高真空氣動(dòng)插板閥 

* 真空系統(tǒng)可以升級(jí)為進(jìn)口分子泵和渦旋干泵。 

真空測(cè)量:數(shù)顯復(fù)合真空計(jì):兩低一高全量程數(shù)顯復(fù)合真空計(jì); 

* 真空測(cè)量可以升級(jí)為進(jìn)口全量程冷陰極真空計(jì) 

極限真空:<5×10-5Pa 恢復(fù)真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 熱蒸發(fā) / 有機(jī)物蒸發(fā)源: 最多 4 組金屬蒸發(fā)源,水冷電極和盒式防污染蒸發(fā)源;(可選配置) 最多 4 個(gè)有機(jī)束源爐,采用氧化鋁或石英坩堝(2CC)(可選配置) 

蒸發(fā)電源:采用恒壓、恒流真空鍍膜電源,最大輸出功率 2.4Kw; 電流調(diào)節(jié)精度 0.01A,電壓調(diào)節(jié)精度 0.01V,數(shù)量:2 臺(tái) 

樣品臺(tái):可容納樣品最大尺寸:4 英寸樣品托一個(gè) , 配擋板,轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào) ; 樣品可加熱控溫, 溫度范圍:室溫 -600,控溫精度 ±0.5 

系統(tǒng)控制:10 英寸觸摸屏 +PLC 控制(可選手動(dòng)按鈕)

選擇配置:

樣品臺(tái)可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控溫 

速率 / 膜厚監(jiān)測(cè)儀(SQM-160 薄膜鍍層控制儀(SQC-310 

可選進(jìn)口蒸發(fā)電源 全量程真空計(jì) (Inficon) 

樣品托 : 不銹鋼、鋁或銅,基片盤上有螺紋孔。

系統(tǒng)要求標(biāo)準(zhǔn)配置:

工藝氣體 :25psi,純度 99.99% 以上 

工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮?dú)?/span> 

: 單相 220V, 50Hz,32A 

:18-25 , 3L/min,壓力 <0.4MPa