MiniLab-60T PVD 薄膜沉積系統(tǒng)
應(yīng)用領(lǐng)域:
適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機(jī)膜等 , 用于鍍制低熔點(diǎn)金屬及合金材料薄膜,單 層 / 多層 / 復(fù)合膜,例:銅、鎂、鋁、金、銀、鋇、鉍、鋅、銻等;用于太陽能電池、LED 的研究和實(shí)驗(yàn)。用于有機(jī)材料等蒸發(fā); 鍍制非金屬 / 化合物等材料薄膜等
基本配置:
◆真空腔室: D 型圓筒形,尺寸約 ф450×H450mm,前開門結(jié)構(gòu);采用鉸鏈、鋁制前門,手動(dòng),上下 2 個(gè)杠桿把手,膠圈密封, 腔體內(nèi)表面采用電解拋光處理;外表面采用拉絲拋光,無擦傷及劃痕。
◆抽氣系統(tǒng):采用復(fù)合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作為真空抽氣系統(tǒng); 主抽泵:分子泵抽速≥ 1200L/S,氮?dú)鈮嚎s比≥ 109 ; 前級泵:VRD-30 機(jī)械泵及電磁閥,抽速:8L/S 主抽閥: CCQ-200 超高真空氣動(dòng)插板閥
* 真空系統(tǒng)可以升級為進(jìn)口分子泵和渦旋干泵。
◆真空測量:數(shù)顯復(fù)合真空計(jì): “兩低一高”全量程數(shù)顯復(fù)合真空計(jì);
* 真空測量可以升級為進(jìn)口全量程冷陰極真空計(jì)
◆極限真空:<5×10-5Pa
◆恢復(fù)真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min)
◆蒸發(fā)源(選配): 金屬蒸發(fā)源:4 組金屬蒸發(fā)源在腔體底部呈發(fā)散形分布 , 相互間擋板隔開 , 避免交叉污染,兼容金屬和有機(jī)材料蒸鍍; 束 源 爐:4 組有機(jī)蒸發(fā)源,坩堝容量(2CC),角度 0-30 度可調(diào),最高溫度:700℃,控制精度 ±0.5℃;
◆蒸發(fā)電源:采用恒壓、恒流真空鍍膜電源,功率 2.4Kw;電流調(diào)節(jié)精度 0.01A,電壓調(diào)節(jié)精度 0.001V,數(shù)量:2 臺(tái) 有機(jī)物蒸發(fā)電源:采用 10V30A 穩(wěn)流電源,電流調(diào)節(jié)精度:0.01A,最小分辨率:0.1mV,0.1mA 數(shù)量:2 臺(tái)
◆樣品臺(tái):可容納樣品最大尺寸:6 英寸樣品托一個(gè) , 配擋板,轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào) ; 樣品可加熱控溫,溫度范圍:室 溫 -600℃,控溫精度 ±0.5℃;( 可選帶掩膜庫系統(tǒng)樣品臺(tái) )
◆膜厚監(jiān)測儀:采用 Inficon SQM-160 速率 / 膜厚監(jiān)測儀,配 1 個(gè)水冷探頭。在線監(jiān)測蒸發(fā)速率與達(dá)到膜厚關(guān)閉基片擋板。
◆控制單元:15 英寸觸摸屏 +PLC 控制
選擇配置:
◆樣品臺(tái)可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控溫
◆可選薄膜鍍層控制儀(SQC-310)
◆可選進(jìn)口蒸發(fā)電源
◆全量程真空計(jì) (Inficon)
◆樣品托 : 不銹鋼、鋁或銅,基片盤上有螺紋孔
系統(tǒng)要求標(biāo)準(zhǔn)配置:
◆工藝氣體 :25psi,純度 99.99% 以上
◆工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮?dú)?/span>
◆電 源 : 三相 380V, 50Hz, 32A
◆冷 凍 水 :18-25℃ , 6L/min,壓力 <0.4MPa