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DHDP& DHIP 系列 射頻 CCP/ICP 薄膜沉積裝置

本裝置由我公司和中科院固體物理研究所聯(lián)合研制。設備主要由薄膜沉積室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進氣調節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)等部分組成。

主要實驗內容

1、硅材料在薄膜太陽能電池上的應用；

2、硅系納米復合薄膜材料 PCVD 法制備；

3、等離子體化學氣相沉積制備各種功能薄膜。

技術參數

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上一個：ISSP-SHF 單晶爐