應(yīng)用領(lǐng)域：

電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料，比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快，制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚 度可以較準(zhǔn)確地控制，可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學(xué)材料薄膜。

基本配置：

◆真空腔室：500mm×650mm 不銹鋼 D 形腔體。前門鉸鏈方便真空室清理；腔室底板，頂部和側(cè)面裝有腔室內(nèi)硬件接口； 前門上配直徑 80 玻璃觀察窗（含手動(dòng)防污染擋板、可拆洗防污玻璃）；腔體水冷。 

◆抽氣系統(tǒng)：采用復(fù)合分子泵 + 直聯(lián)旋片泵作為真空抽氣系統(tǒng)； 主抽泵：分子泵抽速≥ 1200L/S，氮?dú)鈮嚎s比≥ 109 ； 前級(jí)泵：VRD-30 雙極旋片泵及電磁閥，抽速：8L/S 主抽閥：CCQ-200 超高真空氣動(dòng)插板閥 

* 真空系統(tǒng)可以升級(jí)為進(jìn)口分子泵和渦旋干泵。 

◆真空測量： 數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)： “兩低一高”全量程數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)； 

* 真空測量可以升級(jí)為進(jìn)口全量程冷陰極真空計(jì) 

◆極限真空：<5×10-5Pa ◆恢復(fù)真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

◆電子束蒸發(fā)源：電子槍采用磁流體密封，安裝在腔室底部靠中心位置。 高壓電壓：DC-3KV ～ -10KV（可設(shè)） 最大電流：0-1000mA（此時(shí)的加速電壓是 -10kV） 最大加速功率：10KW；電子束偏轉(zhuǎn)角：270°（永磁鐵） 

◆坩堝：配直徑 160mm 6 穴直冷坩堝一套，電動(dòng)轉(zhuǎn)位和點(diǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)位，定位精準(zhǔn)。單穴容量≥ 20cc 

◆薄膜鍍層控制儀： Inficon SQC-310 在線測量膜厚，可以實(shí)時(shí)測量蒸發(fā)的速度和厚度，帶有 PID 控制功能， 可通過膜厚儀自動(dòng)控制蒸鍍速率。 

◆樣品臺(tái)：可容納樣品最大尺寸，6 英寸樣品托一個(gè) , 配擋板，轉(zhuǎn)速 0-30rpm 連續(xù)可調(diào) ; 采用基片臺(tái)背板直接水冷形式；基片采用無氧銅，水冷不控溫。 

◆控制單元：15 英寸觸摸屏 +PLC 控制

選擇配置：

◆樣品可加熱控溫，( 可選帶掩膜庫系統(tǒng)樣品臺(tái) ) 溫度范圍：室溫 -600℃，控溫精度 ±0.5℃； 

◆電子槍可選用進(jìn)口知名品牌 

◆離子束輔助沉積源 

◆全量程真空計(jì) (Inficon)

系統(tǒng)要求標(biāo)準(zhǔn)配置：

◆工藝氣體 :25psi，純度 99.99% 以上 

◆工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮?dú)?/span> 

◆電 源 : 三相 380V, 50Hz, 63A 

 ◆冷 凍 水 :18-25℃ , 6L/min，壓力 <0.4MPa